• 铜箔表面形貌对CVD法生长石墨烯质量的影响

    分类: 材料科学 >> 材料科学(综合) 提交时间: 2023-03-31 合作期刊: 《材料研究学报》

    摘要: 为了制备高质量、少层数的石墨烯薄膜,分别用25%HCl、2mol/LFeCl3腐蚀液及电化学抛光法处理铜箔,改善其表面平整度,然后利用化学气相沉积法在其表面生长石墨烯。通过调整2mol/LFeCl3腐蚀铜箔的时间和电化学抛光铜箔的参数,根据SEM表征结果确定出腐蚀时间为30s,抛光电压为10V,抛光时间为60s时,铜箔表面最为平整。这些方法处理铜箔后生长的石墨烯经拉曼光谱表征后得出,随着铜箔表面逐渐平整,铜箔表面更易生长出少层数,高质量的石墨烯薄膜。实验中还通过调整化学气相沉积(CVD)炉中通乙烯的时间来制备石墨烯。经SEM和拉曼光谱表征可知,延长生长时间,石墨烯薄膜的层数变厚,生长时间过短则石墨烯生长不连续。生长时间为30s时,可生长出单层高质量的石墨烯薄膜,且石墨烯薄膜均匀致密;生长时间为60s时,铜箔表面沉积一层石墨。所以生长单层石墨烯,控制生长时间是必要的。

  • 纳米多孔铜钛合金的制备及其超级电容器性能

    分类: 材料科学 >> 材料科学(综合) 提交时间: 2023-03-18 合作期刊: 《材料研究学报》

    摘要: 采用磁控溅射法和脱合金法相结合的方法制备了纳米多孔铜钛合金。以原子比为40∶60 的Cu-Ti 合金靶材为原料用磁控溅射方法制备了厚度为720 nm的铜钛合金薄膜(Cu35Ti65), 并将此薄膜置于0.13 mol/L 的氢氟酸溶液中用脱合金方法腐蚀得到了纳米多孔铜钛合金薄膜, 将制备好的铜钛合金薄膜作为三电极测试系统中的负极材料, 以对其电容性能进行测试。本文测试和计算了这种纳米多孔铜钛薄膜电极在1 mol/L Na2SO4电解液中的比电容。结果表明, 电极在这种中性溶液中的电化学性能良好, 比容量为8.96 mF·cm-2, 比现有的纳米多孔铜电极有很大的提高。对NPCu/Ti电极的循环充放电性能的测试结果表明, 该电极具有优良的循环稳定性能, 比现有的纳米多孔铜电极有明显的改善。这种改善与电极材料的多孔结构有关。