Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗行为的研究

作者： 刘光明 ¹ 杨晓东 ¹ 林继月 ¹
作者单位：

1. 南昌航空大学材料科学与工程学院南昌 330063
提交时间：2016-11-09 14:33:57

摘要: 以正硅酸乙酯(TEOS)、甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二苯基二甲氧基硅烷(DDS)作和仲丁醇铝(ASB)为主要原料，采用溶胶－凝胶法得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化溶胶，经100℃下固化12h后得到Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层。红外光谱研究表明，杂化材料中形成了Al-O-Si键。采用电化学阻抗(EIS)研究杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为，根据阻抗谱特征建立了等效电路图，结合等效电路图和拟合结果分析了杂化涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的耐蚀性，结果表明在3.5%NaCl溶液中Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层具有良好的耐蚀性。

溶胶-凝胶法 Al2O3/有机硅/SiO2 杂化涂层电化学阻抗谱

链接： http://www.jcscp.org/CN/abstract/abstract21175.shtml
分类： 材料科学 >> 材料科学（综合）
引用： ChinaXiv:201611.00455 (或此版本 ChinaXiv:201611.00455V1)
DOI:10.12074/201611.00455V1
CSTR:32003.36.ChinaXiv.201611.00455.V1
推荐引用方式： 刘光明,杨晓东,林继月.(2016).Al2O3/有机硅/SiO2杂化涂层电化学阻抗行为的研究.中国腐蚀与防护学报.[ChinaXiv:201611.00455] (点此复制)

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2016-11-09 14:33:57

ChinaXiv:201611.00455V1

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