脉冲频率对锆薄膜表面形貌和结构的影响

Effect of Pulse Frequency on Surface Morphology and Microstructure of Zr Films Prepared by Pulse Laser Deposition

作者： 刘伟 ¹ 张晓红 ¹ 刘锦华 ¹ 梁建华 ¹ 龙兴贵 ¹
作者单位：

1. 中国工程物理研究院核物理与化学研究所
提交时间：2023-03-18 11:46:18

摘要: 用脉冲激光气相沉积法在金属钼基底上制备锆薄膜, 并用SEM, AFM, XRD等手段分析薄膜表面形貌和晶体结构, 研究了脉冲激光频率对薄膜表面形貌和晶体结构的影响。结果表明: 随着激光脉冲频率的提高锆薄膜表面液滴数目增加, 液滴尺寸增大, 薄膜的沉积速率显著降低。薄膜表面的平均纳米颗粒尺寸, 随着频率的提高呈现先增大后减小的规律。从XRD数据发现, 较高的脉冲频率极大地促进了薄膜的结晶性生长; 但是, 频率变化对Zr 薄膜晶体结构、晶面择优生长的影响并不明显, 薄膜呈现典型的hcp结构且不随频率的变化改变。

金属材料锆薄膜脉冲激光气相沉积液滴脉冲频率

期刊： 材料研究学报
分类： 材料科学 >> 材料科学（综合）
引用： ChinaXiv:202303.00277 (或此版本 ChinaXiv:202303.00277V1)
DOI:10.12074/202303.00277V1
CSTR:32003.36.ChinaXiv.202303.00277.V1
推荐引用方式： 刘伟,张晓红,刘锦华,梁建华,龙兴贵.(2023).脉冲频率对锆薄膜表面形貌和结构的影响.材料研究学报.[ChinaXiv:202303.00277] (点此复制)

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2023-03-18 11:46:18

ChinaXiv:202303.00277V1

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