分类: 图书馆学、情报学 >> 情报学 提交时间: 2024-04-03 合作期刊: 《农业图书情报学报》
摘要: 目的/ 意义 探讨社交媒体用户数字压力影响因素及作用机理,以期深入了解数字压力的形成路径,为缓解用户数 字压力提供参考和借鉴。 方法/ 过程 选取21 位用户为访谈对象,对访谈资料进行编码,构建理论模型。运用模糊集定性比 较分析渊fsQCA冤方法,基于262 份问卷数据,探索社交媒体用户数字压力形成路径。 结果/ 结论 社交媒体用户数字压力影 响因素有过度使用、技术入侵、信息过载、沟通负荷、错失恐惧、认可焦虑、社会期望、数字应对技能和自我控制9 个,并 将其归为技术、社交、环境、个人特征4 个维度。数字压力的形成路径有6 条,其中过度使用和错失恐惧是导致高数字压力 产生的关键因素,技术入侵和信息过载是数字压力产生的重要条件,数字应对技能和自我控制的作用效果不显著。
分类: 材料科学 >> 材料科学(综合) 提交时间: 2023-03-19 合作期刊: 《金属学报》
摘要: 采用先磁控溅射Zr 膜, 再Si-Y扩散共渗的方法, 在新型Nb-Ti-Si-Cr 基超高温合金表面制备了ZrSi2-NbSi2复合渗层, 分析了渗层的显微组织及形成机制, 并研究了其在1250 ℃的恒温氧化行为. 结果表明, 1150, 1250 和1350 ℃下Si-Y共渗4 h 所制备的渗层具有相似的显微组织, 均主要由ZrSi2外层, (Nb, X)Si2 (X=Ti, Cr, Zr 和Hf)中间层和(Ti, Nb)5Si4内层组成.恒温氧化实验结果表明, 所制备的渗层具有优异的抗高温氧化性能. 氧化时渗层表面形成了由SiO2, TiO2, ZrSiO4和Cr2O3混合组成的致密氧化膜, 能够在1250 ℃空气中保护基体合金至少100 h 不被氧化.